微影半導體宣布,成功結合LED光源與超高焦距深度投影鏡頭,推出業界稀缺的「步進式微米級投影曝光機」,具節能、環保及高性價比優勢,讓微影成為少數掌握關鍵製程設備技術的台灣廠商,在全球設備高度集中且依賴進口的市場格局中具備突圍契機。
微影由董事長胡德立領軍,核心技術雖源自歐美,經過團隊十餘年整合與自主研發,取得重大突破,並同時於竹科設立研發中心、台南建置生產基地,強化研發與製造一體化布局。胡德立並身兼駿吉控股(1591)董座。
根據統計,全球半導體設備市場規模約1,240億美元,預計2030年將達1,779.7億美元,年複合增長率7.5%;其中,步進式曝光設備市場規模可望從2021年的182億美元,成長至2031年的450億美元,年增率9.5%,亞太市場為主要成長動能。
在新商業模式推動下,微影今年營收可望達1億元至1.5億元,並規劃明年第4季登錄興櫃。
胡德立指出,韓國與大陸在官方資金與本土品牌帶動下,已發展出曝光機、濺鍍機等核心製程設備,並躋身全球前十大設備商;台灣雖在全球晶圓代工領域取得關鍵位置,但核心設備多依賴代理進口,國產廠商僅能聚焦於非製程周邊設備,難以切入製程核心。
為突破困境,駿吉控股採取「晶片導入設備」策略,透過自有DDR記憶體晶片外包,帶動封裝廠採用集團的晶圓切割、貼片、測試設備,形成一條龍供應鏈;未來結合台廠濺鍍機、蝕刻機與微影的曝光機,構建自主設備聯盟,從製程、製造到封裝建立完整在地產業鏈,減少對歐美日設備商的依賴。
微影並同步研發濺鍍機與蝕刻機,年底駿吉啟動DDR5晶片製程後,曝光機業務可望同步受惠,進一步推升營收與獲利表現。